欧美高清一区二区三区欧美-欧美高清一区二区三区-欧美高清一区二区三-欧美高清一区二区-99在线观看免费-99在线观看精品视频

Technical Articles

技術文章

當前位置:首頁  >  技術文章  >  光刻膠烘箱技術詳解

光刻膠烘箱技術詳解

更新時間:2025-05-19      點擊次數:196

光刻膠烘箱是半導體制造、光電子器件加工中的關鍵設備,愛義信工業科技用于光刻膠(Photoresist)的 前烘(Pre-Bake)后烘(Post-Bake) 工藝,其核心功能是控制膠膜的溶劑揮發、應力釋放及化學鍵合,直接影響光刻圖形的分辨率和良率。

一、光刻膠烘箱的核心技術要求

1. 溫度控制

2. 潔凈度

3. 氣氛控制

4. 工藝適配性

四、常見問題與解決方案

問題1:光刻膠烘烤后出現龜裂(Cracking)

問題2:膠膜厚度不均勻

問題3:顆粒污染

總結

愛義信工業科技光刻膠烘箱的性能直接決定光刻工藝的線寬控制(CD Uniformity)和缺陷率。選型時需根據 膠型(化學放大型/傳統型)、基板尺寸、產能需求 匹配設備,并嚴格管控潔凈度與溫度穩定性。對于EUV等先進制程,建議選擇帶 多區獨立控溫 和 原位監測 的型號。



400-068-2568
歡迎您的咨詢
我們將竭盡全力為您用心服務
523344516
關注微信
版權所有 © 2025 愛義信工業科技(上海)有限責任公司  備案號:滬ICP備2022032437號-2